EDI设备技术介绍：    

    EDI电去离子设(she)备一般(ban)以(yi)反渗透（RO）纯(chun)水(shui)(shui)作为EDI给水(shui)(shui)，RO纯(chun)水(shui)(shui)电导率(lv)一般(ban)是(shi)40-2μS/cm（25℃)，EDI纯(chun)水(shui)(shui)电阻率(lv)可以(yi)高(gao)达

17MΩ.cm(25℃ )，但是根据去离子(zi)水用(yong)途(tu)和系(xi)统工艺(yi)、配(pei)置不同(tong)，EDI纯水适用(yong)于制备电(dian)阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的

超纯水。

EDI设备特点：

1、产水水质(zhi)高且稳定、连续；

2、操作(zuo)简(jian)单、安(an)全；

3、不会(hui)因再(zai)生而停机；

4、不需酸、碱化学药剂(ji)再生(sheng)；

5、运行费用(yong)低于混床；

6、占地面积小；

7、无污水排放；

8、容易实现全(quan)自动(dong)控制

 EDI设备进水水质要求：

1、TEA (含CO2 ) < 25mg/L as CaCO3；

2、PH值：5－9；

3、总硬度(du)< 1 mg/L as CaCO3； 

4、硅< 0.5 mg/L；

5、TOC< 0.5 mg/L；

6、余(yu)氯< 0.05 mg/L；

7、Fe，Mn，H2S < 0.01 mg/L； 

8、电(dian)导率40-2μS/cm（25℃)。

应用领域：

1、电厂化(hua)学水处理；

2、电子、半导体(ti)、精密(mi)机械行业超纯水；

3、精细化(hua)工(gong)、精尖学科用水；

4、制药工业工艺用水；

5、其他行(xing)业所(suo)需的高纯水制备。